Spiegel für Euv-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für Mikrolithografie mit Derartigem Spiegel und Projektionsbelichtungsgerät für Mikrolithografie mit einem Derartigen Projektionsobjektiv

EP2513685 Art B1 28. Februar 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2513685
Aktenzeichen: EP10778991
Anmeldetag: 8. November 2010
Veröffentlichung: 28. Februar 2018
Erteilung: 28. Februar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G02B5/08G03F7/20// G02B1/10G02B1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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