Optisches Reflexionselement für Euv-Lithographie

EP2513686 Art B1 10. April 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2513686
Aktenzeichen
EP10796337
Anmeldetag
13. Dezember 2010
Veröffentlichung
10. April 2019
Erteilung
10. April 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/08G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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