Reflexionsmaske für Euv-Lithografie

EP2513721 Art B1 27. September 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2513721
Aktenzeichen: EP10790791
Anmeldetag: 17. Dezember 2010
Veröffentlichung: 27. September 2017
Erteilung: 27. September 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/24B82Y10/00B82Y40/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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