Metallträger für den Schichttransfer und Verfahren zu dessen Bildung
EP2521167
Art B1
21. Juni 2017
Anmelder: Soitec 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2521167
- Aktenzeichen
- EP12153918
- Anmeldetag
- 3. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2017
- Erteilung
- 21. Juni 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L33/00H01S5/02H01L31/00H01S5/323
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Soitec
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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