Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Auf-Sapphir Substrats
EP2521177
Art B1
22. Januar 2020
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2521177
- Aktenzeichen
- EP10841002
- Anmeldetag
- 27. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2020
- Erteilung
- 22. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/86H01L21/762H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Larcher, Dominique
Rennes, Frankreich
564
Patente gesamt
32
Fachgebiete
18
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Vidon Brevets & Stratégie
Vidon Brevets & Stratégie · Rennes