Musterbildungsvorrichtung, Gegenüber Aktinischer Strahlen oder Strahlung Empfindliche Harzzusammensetzung und Resistfilm

EP2521941 Art A1 14. November 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2521941
Aktenzeichen: EP11731870
Anmeldetag: 7. Januar 2011
Veröffentlichung: 14. November 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C08F20/34G03F7/038G03F7/039G03F7/32G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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