Polymer mit Silphenylen- und Siloxanstrukturen, Herstellungsverfahren, Haftmittelzusammensetzung, Haftmittelblatt, Schutzmaterial für eine Halbleitervorrichtung und Halbleitervorrichtung
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2527388
- Aktenzeichen
- EP12168869
- Anmeldetag
- 22. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2014
- Erteilung
- 25. Juni 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/52C08G77/54C08G73/06C08L83/14C09J183/14H05K3/28H01L23/29C09J7/00
Abstract
One aspect of the present invention provides a polymer having silphenylene and siloxane repeating units represented by the formulas (1-1), (1-2) and (1-3) and weight-average molecular weight of from 3,000 to 500,000, as determined by GPC using tetrahydrofuran as a solvent, reduced to polystyrene. Another aspect of the present invention provides an adhesive composition comprising (A) the polymer, (B) a thermosetting resin, and (C) a compound having flux activity. Further, the present invention provides an adhesive sheet having an adhesive layer made of the adhesive composition, a protective material for a semiconductor device, which has the adhesive layer, and a semiconductor device having a cured product obtained from the adhesive composition.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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