Verfahren zur Gewinnung von Halbleiterwafern und Reinigungszusammensetzung dafür
EP2530706
Art A1
5. Dezember 2012
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2530706
- Aktenzeichen
- EP11736936
- Anmeldetag
- 21. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02C09G1/02C09K3/14B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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Vertreten von
Neuefeind, Regina
München, Deutschland
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