Verwendung einer Photopolymer-Formulierung mit Triazin-Basierten Schreibmonomeren

EP2531892 Art B1 27. Januar 2016

Anmelder: Covestro Deutschland AG, Bayer Intellectual Property GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2531892
Aktenzeichen: EP11701279
Anmeldetag: 28. Januar 2011
Veröffentlichung: 27. Januar 2016
Erteilung: 27. Januar 2016
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/027G03F7/035G03F7/00G03H1/00G11B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Covestro Deutschland AG
Bayer Intellectual Property GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Covestro Deutschland

Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Optik & Fototechnik

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