Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung

EP2533078 Art B1 12. Februar 2014

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2533078
Aktenzeichen: EP12158338
Anmeldetag: 7. März 2012
Veröffentlichung: 12. Februar 2014
Erteilung: 12. Februar 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G02B5/18G02B5/08G03F7/20H05G2/00G21K1/10G21K1/06G02B27/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von