Wässrige Dispersion zum Chemischen und Mechanischen Polieren sowie Verfahren zum Chemischen und Mechanischen Polieren damit

EP2533274 Art B1 30. Juli 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2533274
Aktenzeichen
EP11736868
Anmeldetag
17. Januar 2011
Veröffentlichung
30. Juli 2014
Erteilung
30. Juli 2014
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/3105C09G1/02C09K3/14B24B13/015B24B29/02B24B37/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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