Unterbeschichtungsfilmmaterial sowie Verfahren zur Formierung einer Mehrschichtigen Resiststruktur
EP2535768
Art A1
19. Dezember 2012
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2535768
- Aktenzeichen
- EP11741987
- Anmeldetag
- 18. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11H01L21/027H01L21/3065G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München