Zusammensetzung zur Bildung eines Resist-Unterbeschichtungsfilms mit Silicium mit einem Stickstoffhaltigen Ring

EP2538276 Art A1 26. Dezember 2012

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2538276
Aktenzeichen: EP11744756
Anmeldetag: 18. Februar 2011
Veröffentlichung: 26. Dezember 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11C07F7/18C08G77/26G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von