Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2539770
Art B1
7. Dezember 2016
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2539770
- Aktenzeichen
- EP11705506
- Anmeldetag
- 18. Februar 2011
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2016
- Erteilung
- 7. Dezember 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte