Verfahren zur Beseitigung von Materialfragmenten auf der Oberfläche einer Mehrschichtstruktur

EP2539922 Art A2 2. Januar 2013

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2539922
Aktenzeichen
EP11707462
Anmeldetag
7. Februar 2011
Veröffentlichung
2. Januar 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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