In einem Verbesserten Ionenimplantationsverfahren Hergestellte Halbleiterstruktur
EP2539929
Art A1
2. Januar 2013
Anmelder: Corning Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2539929
- Aktenzeichen
- EP11704709
- Anmeldetag
- 15. Februar 2011
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Corning Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Corning
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Corning, New York. Corning ist spezialisiert auf Spezialglas, Keramik und optische Fasern für Displays, Telekommunikation, Automobiltechnik, Life Sciences und Umwelttechnik.
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Vertreten von
Greene, Simon Kenneth
Sevenoaks, Großbritannien
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