Verfahren zur Herstellung von Fotolackmustern
EP2544218
Art B1
10. Februar 2016
Anmelder: National University Corporation Hokkaido University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2544218
- Aktenzeichen
- EP11750372
- Anmeldetag
- 1. März 2011
- Veröffentlichung
- 10. Februar 2016
- Erteilung
- 10. Februar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/50G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National University Corporation Hokkaido University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National University Corporation Hokkaido University
Staatliche japanische Universität in Sapporo mit breiter Forschung, u.a. in Agrarwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialwissenschaften.
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