Verfahren zur Herstellung eines Nitridhalbleiterelements, Lichtemittierendes Nitridhalbleiterelement und Lichtemittierende Vorrichtung
EP2544250
Art B1
8. Januar 2020
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2544250
- Aktenzeichen
- EP11750532
- Anmeldetag
- 23. Februar 2011
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2020
- Erteilung
- 8. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/02H01L33/12// H01L33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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