Lasererzeugte Plasma-Euv-Lichtquelle

EP2544766 Art B1 2. August 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2544766
Aktenzeichen: EP11753705
Anmeldetag: 1. März 2011
Veröffentlichung: 2. August 2017
Erteilung: 2. August 2017
Rechtsraum: EP
IPC: A61N5/06B82Y10/00G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik

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