Strahlungsquelle, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2545413
Art A1
16. Januar 2013
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2545413
- Aktenzeichen
- EP11704558
- Anmeldetag
- 31. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/00G21K1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Siem, Max Yoe Shé
Amsterdam, Niederlande
151
Patente gesamt
19
Fachgebiete
5
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Schwerpunkte