Dielektrische Ablagerung Mithilfe einer Remote-Plasmaquelle

EP2550379 Art A2 30. Januar 2013

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2550379
Aktenzeichen: EP11760073
Anmeldetag: 22. März 2011
Veröffentlichung: 30. Januar 2013
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/34C23C14/50C23C14/35C23C14/00H05H1/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von