Spiegel und System zum Erzeugen von Extrem Uv Strahlung

EP2550665 Art B1 25. Juli 2018

Anmelder: Gigaphoton Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2550665
Aktenzeichen
EP11716315
Anmeldetag
22. März 2011
Veröffentlichung
25. Juli 2018
Erteilung
25. Juli 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20B82Y10/00G02B5/08G21K1/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Gigaphoton Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Gigaphoton

Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.

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