Fotomaskeneinheit und Herstellungsverfahren dafür
EP2555052
Art B1
16. Oktober 2024
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2555052
- Aktenzeichen
- EP11765309
- Anmeldetag
- 10. März 2011
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2024
- Erteilung
- 16. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/62G03F1/64
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Kanzlei
Lorenz Seidler Gossel
München, Deutschland
Lorenz Seidler Gossel wurde 1962 gegründet und zählt seit über sechs Jahrzehnten zu Deutschlands führenden IP-Kanzleien, Sitz an der Münchner Widenmayerstraße, beschrieben als „boutique with scale“, besonders renommiert im Marken- und Designrecht.
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