Systeme und Verfahren für den Schutz einer Zielmaterialausgabe in einer Laserproduzierten Plasma-Euv-Lichtquelle

EP2556514 Art A1 13. Februar 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2556514
Aktenzeichen: EP11766532
Anmeldetag: 1. April 2011
Veröffentlichung: 13. Februar 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G21G5/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik

Vertreten von