Euv-Strahlungsquelle und Euv-Strahlungserzeugungsverfahren
EP2556729
Art A1
13. Februar 2013
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2556729
- Aktenzeichen
- EP11708236
- Anmeldetag
- 8. März 2011
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Fachgebiete
Vertreten von
Siem, Max Yoe Shé
Amsterdam, Niederlande
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Fachgebiete
5
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