Röntgenlithographiemaske aus Nickel oder einer Nickelbasislegierung

EP2558906 Art B1 19. März 2014

Anmelder: Karlsruher Institut für Technologie 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2558906
Aktenzeichen: EP11713685
Anmeldetag: 2. April 2011
Veröffentlichung: 19. März 2014
Erteilung: 19. März 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Karlsruher Institut für Technologie
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Karlsruher Institut für Technologie

Deutsche Universität und Forschungseinrichtung in Karlsruhe, entstanden aus Fusion von Universität und Großforschungszentrum, mit Lehre und Forschung in Natur-, Ingenieur- und Technikwissenschaften.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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