Titandioxiddotiertes Quarzglas und Verfahren zu Seiner Herstellung
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2559669
- Aktenzeichen
- EP12179819
- Anmeldetag
- 9. August 2012
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2016
- Erteilung
- 4. Mai 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03B19/14C03C3/06C03C4/00G03F1/24
Abstract
Titania-doped quartz glass is manufactured by mixing a silicon-providing reactant gas and a titanium-providing reactant gas, preheating the reactant gas mixture at 200-400°C, and subjecting the mixture to oxidation or flame hydrolysis. A substrate of the glass is free of concave defects having a volume of at least 30,000 nm 3 in an effective region of the EUV light-reflecting surface and is suited for use in the EUV lithography.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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