Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP2562794
Art A1
27. Februar 2013
Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2562794
- Aktenzeichen
- EP10850023
- Anmeldetag
- 17. September 2010
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L21/8234H01L21/28H01L29/41
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences
Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München