Vorrichtungen mit entfernten Aluminiumnitridabschnitten

EP2562826 Art B1 28. Juni 2017

Anmelder: Palo Alto Research Center Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2562826
Aktenzeichen
EP12181790
Anmeldetag
24. August 2012
Veröffentlichung
28. Juni 2017
Erteilung
28. Juni 2017
Rechtsraum
EP
IPC
H01L33/00
Offizieller Volltext

Abstract

One or more layers are epitaxially grown on a bulk crystalline AlN substrate. The epitaxial layers include a surface which is the initial surface of epitaxial growth of the epitaxial layers. The AlN substrate is substantially removed over a majority of the initial surface of epitaxial growth.

Anmelder

Firma
Palo Alto Research Center Incorporated
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Palo Alto Research Center

US-amerikanisches Forschungsinstitut in Palo Alto, bekannt als PARC, das für Xerox und externe Auftraggeber Grundlagen- und angewandte Forschung in Informatik, Elektronik und Materialwissenschaften betreibt.

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