Herstellungsverfahren für Elektrode zur Anwendung in einer Oberflächenentladungsbehandlung
EP2564955
Art B1
16. Dezember 2015
Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2564955
- Aktenzeichen
- EP11775027
- Anmeldetag
- 27. April 2011
- Veröffentlichung
- 16. Dezember 2015
- Erteilung
- 16. Dezember 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22F3/22B22F3/10B29C45/00B29K105/22B22F1/00B22F9/04C22C19/07C23C24/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IHI Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
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Vertreten von
Lamb, Martin John Carstairs
London, Großbritannien
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Fachgebiete
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