Gesintertes Kompakt-Sputtering-Target aus einer Legierung auf Sb-Te-Basis
EP2565293
Art B1
12. November 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2565293
- Aktenzeichen
- EP11774903
- Anmeldetag
- 21. April 2011
- Veröffentlichung
- 12. November 2014
- Erteilung
- 12. November 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/547C04B35/626C04B35/645C23C14/06C22C1/04C22C12/00C22C28/00G11B7/00G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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Schwerpunkte