Siliciumnitridfilm für ein Halbleiterbauelement sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung des Siliciumnitridfilms

EP2573803 Art A1 27. März 2013

Anmelder: Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2573803
Aktenzeichen: EP11783423
Anmeldetag: 11. Mai 2011
Veröffentlichung: 27. März 2013
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/318B32B9/04C23C16/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Heavy Industries

Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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