Herstellungsmethode für Dünnfilmtransistor
EP2579315
Art B1
15. August 2018
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2579315
- Aktenzeichen
- EP11789385
- Anmeldetag
- 27. April 2011
- Veröffentlichung
- 15. August 2018
- Erteilung
- 15. August 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786H01L29/66H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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