Piezoelektrische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer piezoelektrischen Vorrichtung
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2579347
- Aktenzeichen
- EP12186954
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2015
- Erteilung
- 25. Februar 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L41/047H01L41/09H01L41/316H01L41/297
Abstract
A piezoelectric device (10, 50, 90, 100, 150, 160) includes: a substrate (12, 30, 110, 170); a first electrode (14, 32, 114) which is layered over the substrate (12, 30, 110, 170); a first piezoelectric film (16, 34, 116) which is layered over the first electrode (14, 32, 114); a metal oxide film (18, 36, 62A, 62B, 118) which is layered over the first piezoelectric film (16, 34, 116); a metal film (20, 38, 64A, 64B, 120) which is layered over the metal oxide film (18, 36, 62A, 62B, 118); a second piezoelectric film (22, 44, 74, 122) which is layered over the metal film (20, 38, 64A, 64B, 120); and a second electrode (24, 46, 82, 124) which is layered over the second piezoelectric film (22, 44, 74, 122).
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München