Piezoelektrische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer piezoelektrischen Vorrichtung

EP2579347 Art B1 25. Februar 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2579347
Aktenzeichen
EP12186954
Anmeldetag
2. Oktober 2012
Veröffentlichung
25. Februar 2015
Erteilung
25. Februar 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L41/047H01L41/09H01L41/316H01L41/297
Offizieller Volltext

Abstract

A piezoelectric device (10, 50, 90, 100, 150, 160) includes: a substrate (12, 30, 110, 170); a first electrode (14, 32, 114) which is layered over the substrate (12, 30, 110, 170); a first piezoelectric film (16, 34, 116) which is layered over the first electrode (14, 32, 114); a metal oxide film (18, 36, 62A, 62B, 118) which is layered over the first piezoelectric film (16, 34, 116); a metal film (20, 38, 64A, 64B, 120) which is layered over the metal oxide film (18, 36, 62A, 62B, 118); a second piezoelectric film (22, 44, 74, 122) which is layered over the metal film (20, 38, 64A, 64B, 120); and a second electrode (24, 46, 82, 124) which is layered over the second piezoelectric film (22, 44, 74, 122).

Anmelder

Firma
Fujifilm Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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