Verbindung, Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP2599814
Art B1
14. Februar 2018
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2599814
- Aktenzeichen
- EP11812037
- Anmeldetag
- 25. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2018
- Erteilung
- 14. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G65/38G03F7/004G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München