Substrat mit einer Reflektierenden Schicht für Euv-Lithographie sowie Reflektierender Maskenrohling für Euv-Lithographie
EP2600388
Art B1
8. Oktober 2014
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2600388
- Aktenzeichen
- EP11812493
- Anmeldetag
- 26. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2014
- Erteilung
- 8. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027G03F1/00G03F1/24G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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