Chemisch verstärkte, negative Resistzusammensetzung, lichthärtbarer Trockenfilm, Herstellungsverfahren, Musterbildungsverfahren und Schutzfilm für elektrisches/elektronisches Teil
EP2602660
Art B1
20. März 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2602660
- Aktenzeichen
- EP12196251
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 20. März 2019
- Erteilung
- 20. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G03F7/038G03F7/004G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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