Chemisch verstärkte, negative Resistzusammensetzung, lichthärtbarer Trockenfilm, Herstellungsverfahren, Musterbildungsverfahren und Schutzfilm für elektrisches/elektronisches Teil
EP2602661
Art B1
28. August 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2602661
- Aktenzeichen
- EP12196245
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 28. August 2019
- Erteilung
- 28. August 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G03F7/085G03F7/038G03F7/16G03F7/40
Abstract
A chemically amplified negative resist composition is provided comprising (A) a resin having a crosslinking group, (B) a crosslinker, (C) a photoacid generator capable of generating an acid upon exposure to light of wavelength 190-500 nm, (D) a solvent, and (E) an isocyanuric acid. The resist composition overcomes the stripping problem that the film is stripped from metal wirings of Cu or Al, electrodes, and SiN substrates.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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