Siliziumwafer-Verarbeitungslösung und Siliziumwafer-Verarbeitungsverfahren

EP2610896 Art A1 3. Juli 2013

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2610896
Aktenzeichen
EP11819900
Anmeldetag
23. August 2011
Veröffentlichung
3. Juli 2013
Rechtsraum
EP
IPC
B28D5/00H01L21/306C10M173/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen