Siliziumwafer-Verarbeitungslösung und Siliziumwafer-Verarbeitungsverfahren
EP2610896
Art A1
3. Juli 2013
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2610896
- Aktenzeichen
- EP11819900
- Anmeldetag
- 23. August 2011
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B28D5/00H01L21/306C10M173/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München