Silicium-Polierzusammensetzungen mit Hoher Rate und Niedriger Defektdichte

EP2611878 Art A2 10. Juli 2013

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2611878
Aktenzeichen
EP11822449
Anmeldetag
30. August 2011
Veröffentlichung
10. Juli 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/306C09G1/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Cabot Microelectronics Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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