Vorrichtung und Verfahren zur Erhaltung von Immersionsflüssigkeit in der Spalte unter einer Projektionslinse während des Waferaustauschs in einer Immersionslithografiemaschine

EP2613195 Art B1 16. Dezember 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2613195
Aktenzeichen
EP13154187
Anmeldetag
17. März 2004
Veröffentlichung
16. Dezember 2015
Erteilung
16. Dezember 2015
Rechtsraum
EP
IPC
G03B27/32G03B27/42G03B27/58G03F7/20G03B27/52
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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