Optisches System eines Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts und Verfahren zur Minimierung von Bildpositionierungsfehlern
EP2622411
Art B1
4. November 2015
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2622411
- Aktenzeichen
- EP10765951
- Anmeldetag
- 28. September 2010
- Veröffentlichung
- 4. November 2015
- Erteilung
- 4. November 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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