Vorrichtung zur Abstrahlung Geladener Teilchen, Dünnfilmbildungsverfahren, Fehlerkorrekturverfahren und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung

EP2624279 Art B1 5. April 2017

Anmelder: Hitachi High-Tech Science Corporation, Japan Science and Technology Agency, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2624279
Aktenzeichen: EP11828920
Anmeldetag: 22. September 2011
Veröffentlichung: 5. April 2017
Erteilung: 5. April 2017
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/305H01J37/30H01J37/317C23C16/04C23C16/24C23C16/32C23C16/40C23C16/42C23C16/48C23C16/56H01L21/02H01L21/28H01L21/66H01L29/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi High-Tech Science Corporation
Japan Science and Technology Agency
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

2.090 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von