Chemisch verstärkte negative Resistzusammensetzung und Musterbildungsverfahren

EP2626743 Art B1 12. Oktober 2016

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., International Business Machines Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2626743
Aktenzeichen: EP13154792
Anmeldetag: 11. Februar 2013
Veröffentlichung: 12. Oktober 2016
Erteilung: 12. Oktober 2016
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038

Abstract

A polymer comprising recurring units having an acid-eliminatable group on a side chain and aromatic ring-bearing cyclic olefin units is used to formulate a chemically amplified negative resist composition. Any size shift between the irradiated pattern and the formed resist which can arise in forming a pattern including isolated feature and isolated space portions is reduced, and a high resolution is obtained.

Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
International Business Machines Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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