Fotomaskenrohling und Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske
EP2645166
Art B1
13. Januar 2016
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2645166
- Aktenzeichen
- EP11843140
- Anmeldetag
- 18. November 2011
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2016
- Erteilung
- 13. Januar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/54C22C27/06C22C28/00C22C29/00C23C14/14G03F1/30C23C14/06G03F1/50G03F1/80
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Smaggasgale, Gillian Helen
London, Großbritannien
1.678
Patente gesamt
34
Fachgebiete
24
Anmelder-Länder
Schwerpunkte