Entfernte Dotiergasquelle für eine Ionenimplantierungsvorrichtung, Ionenimplantierungsvorrichtung und Verfahren damit
EP2647036
Art B1
11. Oktober 2017
Anmelder: ENTEGRIS INC., Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2647036
- Aktenzeichen
- EP11844695
- Anmeldetag
- 26. November 2011
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2017
- Erteilung
- 11. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/265H01J37/30H01J37/317H01J37/08C23C14/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ENTEGRIS INC.
Advanced Technology Materials, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
899 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
ABG Patentes, S.L
Madrid, Spanien
2.380
Patente gesamt
34
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37
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Greaves Brewster LLP
Greaves Brewster LLP · Cheddar