Beschichtungsverfahren zur Abscheidung eines Schichtsystems auf einem Substrat, sowie Substrat mit einem Schichtsystem

EP2653583 Art B1 10. März 2021

Anmelder: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon, Oerlikon Metaplas GmbH, Sulzer Metaplas GmbH 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2653583
Aktenzeichen
EP13161346
Anmeldetag
27. März 2013
Veröffentlichung
10. März 2021
Erteilung
10. März 2021
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/00C23C14/06C23C14/32C23C14/34C23C14/35
Offizieller Volltext

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Beschichtungsverfahren zur Abscheidung eines Schichtsystems (S) gebildet aus Hartstoffschichten auf einem Substrat (1), umfassend die folgenden Verfahrensschritte: Bereitstellen einer evakuierbaren Prozesskammer mit einer kathodischen Vakuum-Bogenverdampfungsquelle (Q1) mit einem Verdampfungsmaterial (M1) und einer Magnetronentladungsquelle (Q2) mit einem Entladungsmaterial (M2), wobei die Magnetronentladungsquelle (Q2) in einem HIPIMS-Modus betrieben werden kann. Danach abscheiden mindestens einer Kontaktschicht (S1) umfassend das Verdampfungsmaterial (M1) auf der Oberfläche des Substrats (1) in einem kathodischen Vakuum-Bogenverdampfungsverfahren nur mittels der kathodischen Vakuum-Bogenverdampfungsquelle (Q1). Erfindungsgemäss wird nach dem Abscheiden der Kontaktschicht (S1) mindestens eine Zwischenschicht (S2) in Form einer nanostrukturierten Mischschicht, insbesondere in Form einer nanolagigen Zwischenschicht (S2) in einer Hybridphase oder als Nanokompositschicht, umfassend das Verdampfungsmaterial (M1) und das Entladungsmaterial (M2), durch parallelen Betrieb der kathodischen Vakuum-Bogenverdampfungsquelle (Q1) und der Magnetronentladungsquelle (Q2) abgeschieden. Dabei wird die Magnetronentladungsquelle (Q2) im HIPIMS-Modus betrieben, und abschliessend mindestens eine Deckschicht (S3) umfassend das Material (M2) nur mittels der Magnetronentladungsquelle (Q2) abgeschieden, wobei die Magnetronentladungsquelle (Q2) im HIPIMS-Modus betrieben wird. Ausserdem betrifft die Erfindung ein Substrat mit einem Schichtsystem.

Anmelder

Firmen
Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon
Oerlikon Metaplas GmbH
Sulzer Metaplas GmbH
Land
🇨🇭 Schweiz

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