Herstellungsverfahren für einen Fotomaskenrohling
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2657764
- Aktenzeichen
- EP13165445
- Anmeldetag
- 25. April 2013
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2020
- Erteilung
- 6. Mai 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/26G03F1/50G03F1/32
Abstract
An object of this invention is to provide a photomask blank in which there is little warpage and is which an amount of warpage change after a photomask manufacturing process ends is also small. First, a phase shift film is deposited (S101), next, the phase shift film is subjected to a heat treatment within a temperature range of 260°C to 320°C for four hours or more (S102), and thereafter a flash irradiation treatment is performed thereon (S103). A light-shielding film is deposited on the phase shift film after the aforementioned treatments (S104), to thereby obtain a photomask blank (S105).
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Bereits 1873 gegründet, eine der traditionsreichsten britischen Patent- und Markenkanzleien mit Büros in London, Liverpool und Cardiff. Begleitet von der Anmeldung bis zur Verwertung, einschließlich Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht.
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Smaggasgale, Gillian Helen
NoneLondon