Fotomaskenrohling-Herstellungsverfahren, Fotomaskenrohling, Fotomaske, Musterübertragungsverfahren, und Sputtervorrichtung
EP2664962
Art B1
17. Februar 2021
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2664962
- Aktenzeichen
- EP13167567
- Anmeldetag
- 13. Mai 2013
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2021
- Erteilung
- 17. Februar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/46G03F1/50G03F1/80C23C14/18C23C14/34C23C14/35H01J37/34G03F1/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Kanzlei
WP Thompson
Bereits 1873 gegründet, eine der traditionsreichsten britischen Patent- und Markenkanzleien mit Büros in London, Liverpool und Cardiff. Begleitet von der Anmeldung bis zur Verwertung, einschließlich Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht.
6.281
Patente gesamt
4
Patentanwälte
1
Standorte
Weitere Vertreter
-
Smaggasgale, Gillian Helen
NoneLondon