Spiegel für Euv-Lithografie

EP2665839 Art B1 26. Dezember 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2665839
Aktenzeichen: EP12702447
Anmeldetag: 14. Januar 2012
Veröffentlichung: 26. Dezember 2018
Erteilung: 26. Dezember 2018
Rechtsraum: EP
IPC: C22C9/00C22C21/00C22C29/00G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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